Установка предназначена для нанесения плоских и трехмерных контактов на полупроводниковые структуры. Возможность поочередного напыления не менее 4 материалов Ni, Al, Au, In(из 2-х испарителей) на кремниевую подложку 100 мм за один технологический процесс.
Возможность визуального контроля процесса начала и конца испарения исходных материалов (фиксирование начала и конца испарения).
Возможность контроля температуры источника и подложки.
Ток испарителя задается контроллером по временной диаграмме.
Очистка подложки осуществляется ионным источником в мягком режиме, без повреждения структуры.
Измерение плотности потока испаряемого вещества ионизационными датчиками.
Измерение, контроль толщины покрытий, с контролем ресурса датчика толщины покрытий.
Нагрев подложек до 200°С, с системой контроля и с системой блокировки на перегрев.
Подложкодержатели, датчики, экраны и источники регулируются по высоте, чтобы обеспечить регулировку расстояния от испарителя до подложки от 200 до 600 мм.
От близкой по компоновке установки УВН-71 отличает больший объем вакуумной камеры, большее число источников (5 независимых испарителей), наличие ионного источника для мягкой очистки структур или ассистирования. Откачка полностью безмаслянная криогенным насосом.
Три сверхвысоковакуумные камеры с подставками, поставленные нами по техническому заданию заказчика
Вакуум до 10–11 торр. Обеспечено точное расположение патрубков, например, угол 2 градуса для дифракции электронов. Фланцы как стандартные CF, так и нестандартные, по чертежам заказчика.
Галогенный нагреватель подложек с водяным охлаждением мощностью 1,2 кВт
Пример подключения трасс и вакуумных вводов
На фланец установлены электрические вводы (4 шт.), напуск воздуха, масс-спектрометрический модуль, трехканальная трасса подачи газов.
Исследовательская установка спроектирована и изготовлена нами для Белгородского государственного технического университета.
В составе установки 12 эксимерных ламп, излучающих вакуумный ультрафиолет, каждая на отдельном фланце. Верхняя крышка камеры с лампами открывается и сдвигается на шарнире. Образцы охлаждаются жидким азотом или нагреваются до 150°C. Установка оснащена принудительной вентиляцией для удаления образующегося озона.
Установка для исследования процессов нанесения тонких пленок разработана и изготовлена нашим коллективом по техническому заданию Заказчика для Лаборатории экспериментальной физики Центра научно-технического творчества НГУ.
Диаметр камеры 70 см, длина около 2 метров. Несмотря на большее количество фланцев, даже без прогрева камеры был получен вакуум 4×10–7 торр на турбомолекулярных насосах.
Установка на различных этапах монтажа. На двери камеры расположено большое количество смотровых окон для наблюдения за процессом напыления. Рукояти уплотнения двери — на подшипниках, что облегчает работу с установкой студенткам.
Установка полностью автоматизирована, затворы и клапаны пневматические. Откачка может осуществляться как в режиме ручного управления, так и нажатием одной кнопки. Компьютерное управление системой напуска газа (3 канала) и системами питания магнетронов и ионного источника. Показания вакуумметров, параметры состояния насосов, затворов, расход газов отображаются на мониторе компьютера.
Cостав установки для исследования процессов нанесения тонких пленок:
- Магнетроны и ионный источник с системами питания (ООО «Прикладная электроника»);
- Цифровые регуляторы расхода газа (Horiba);
- Система нагрева подложек галогенными лампами (ООО «ВСЭ»);
- Охлаждаемый и регулируемый по высоте механизм вращения подложек (ООО «ВСЭ»);
- другие компоненты.
На установке для молекулярного практикума НГУ ведутся работы по обучению студентов навыкам работы с вакуумной техникой и получению газовых разрядов.
Камера установки укомплектована различного типа насосами и вакуумметрами. Металлокерамические электрические вводы позволяют получать в установке как высоковольтный тлеющий, так и сильноточный дуговой газовые разряды. Смотровое окно на фланце Ду160 позволяет удобно наблюдать за происходящим внутри вакуумной камеры.
