Мелкосерийное производство с 2009 г.

Возможности установки

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий и проведения научных исследований в области материаловедения, приборостроения, электроники, нанесения оптических покрытий, микромеханических устройств (MEMS)  и др.
Оптимально соответствует целям и задачам учебного процесса ВУЗов.
Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации  управления вакуумной системой и процесса напыления. Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами.
Установка предусматривает возможность нанесения  различных типов металлов и диэлектриков как на твёрдые, так и на дисперсные образцы. Толщина покрытий от десятков нанометров до нескольких микрон.

Основные характеристики

- система безмасляной откачки обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий. Предельное остаточное давление - 1*10-7мБар.
- специально разработанная конструкция вакуумной камеры для оптимизации процесса в малом объёме. Выполнена из нержавеющей стали, обеспечивает распыление сверху вниз. Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий
Съемный верхний фланец предусматривает возможность установки дополнительного магнетрона и ионного источника на месте двух  портов. Специальный фланец для установки датчика толщины покрытий.
- минимизация диаметра нераспыляемой центральной части магнетрона. Магнетрон с заслонкой выполнен на фланце в стандарте ISO100 с возможностью регулировки высоты расположения мишени относительно фланца.
Мощность разряда, до 1,5 кВт
Однородность наносимых покрытий: ±10%
- диапазон плавного регулирования выходной средней мощности: от 0,1 до 3 кВт
- подложкодержатель с шаговым двигателем и оптическими датчиками обеспечивает точность положения до 0,5 мм. Количество подложек диаметром  90 мм – 4 шт.
Ввод вращения в вакуум с дифференциальной откачкой.
- подача газа осуществляется непосредственно через магнетрон (опция)
- предусмотрена возможность измерения толщины покрытия (опция)
- устройство нагрева подложкодержателя (опция)
-  передача данных и управление через ПК (опция)
-  комплектующие от ведущих мировых производителей

Система управления - полуавтоматическая. Реализована на программируемом контроллере с  управлением откачкой, потоками газов, электромагнитными клапанами, шаговым двигателем, технологическими источниками питания. Наличие системы блокировок по потоку воды и по допустимому вакууму. Наличие цветного сенсорного экрана.

Возможная комплектация:

Система измерения толщины металлического покрытия - опционально (обеспечивает измерение скорости осаждения, толщину покрытия, ресурс кристалла).
Тип датчика — кварцевые микровесы, с пневматической заслонкой.

Масса: 87 кг.

Размеры установки (длина х ширина х высота): 1050х700х670 мм.

Мелкосерийное производство данной модели установок магнетронного напыления развивается в нашей компании с 2010г.
Установка предназначена для многослойного напыления металлов и диэлектриков на твёрдые образцы.

Это оптимальная конфигурация вакуумной системы для решения множества исследовательских и производственных задач.

Данная установка успешно используется для серийного выпуска высокотехнологичной продукции.


D-образная  камера с большой дверью  даёт возможность размещения не менее 10 подложек диаметром 50 мм или 6 подложек диаметром 100 мм. Рабочий цикл при одностороннем напылении составляет 2-3 часа.

  

 Специально разработанный подложкодержатель легко снимается вручную и может разместиться на столе для удобства загрузки.

Оснащён шаговым двигателем и возможностью регулировки по высоте. Точность позиционирования (менее 1 мм) обеспечивается оптическими датчиками положения. Предусмотрен встроенный нагрев подложек для очистки поверхности, улучшения адгезии, выдерживания стехиометрии при заданной температуре.

 
Конструкция установки предусматривает два магнетрона постоянного тока для металлов (с возможностью работы в импульсном режиме), один ВЧ магнетрон для диэлектрика. Магнетроны располагаются в нижней части вакуумной камеры под подложкодержателем, могут регулироваться по высоте, комплектуются пневматическими заслонками. Подача газа осуществляется отдельно на каждом магнетроне через газовое кольцо. Для защиты от перепыления с соседнего магнетрона предусмотрен съёмный экран.

Полная автоматизация с сохранением и воспроизведением последовательности действий технологических процессов. 

 

 

Дополнительные опции: датчик толщины покрытий (кварцевый резонатор), квадрупольный масс-спектрометр, прецизионный цифровой регулятор расхода газа, мощный источник бесперебойного питания, позволяющий завершить техпроцесс в случае отключения электропитания.

 

Вакуумная установка VSE-PVD-Powder разработана и изготовлена специально для задачи нанесения покрытий на дисперсные материалы.

 

 Области применения:

- приготовление композитных, наноматериалов, катализаторов и др.
- СВС-синтез
- блокирующие слои
- исследования в области биосовместимых покрытий
- многослойное напыление металлов и диэлектриков     
-  отработка технологий в области  материаловедения
- полупроводниковые технологии
- инженерные приложения

 

 Уникальной особенностью данной установки является специально разработанная виброкювета, позволяющая достигать высокого уровня адгезии и равномерного распределения напыляемого материала на образец.

 


Виброкювета устанавливается на вращающемся подложкодержателе и  может точно помещаться под различными магнетронами (точность позиционирования – менее 1 мм – обеспечивается оптическими датчиками положения, что даёт возможность получения многослойных покрытий за один технологический цикл.

 


Толщина покрытий  - от десятков нанометров до нескольких микрон.


Высокая чистота обеспечивается системой безмасляной откачки на основе турбомолекулярного насоса Shimadzu. 


Установка оснащена двумя  DC магнетронами для металлов, двумя RF магнетронами  для диэлектриков, ионным источником для очистки, датчиком толщины покрытия.


Подача газа через газовое кольцо отдельно на каждом магнетроне. 
Два канала подачи газа через масс-флоу контроллеры.


Дополнительные опции —  квадрупольный масспектрометр, источник бесперебойного питания, позволяющий завершить техпроцесс за два часа после отключения электричества.

Впервые в России спроектирована и изготовлена система вакуумного осаждения, обеспечивающая последовательное получение контролируемых по толщине и скорости  тонких слоев металлов и органических материалов за один цикл.

В настоящее время производство OLED-дисплеев является одной из самых быстро растущих отраслей в мире.
Метод вакуумного испарения широко используется в OLED -  технологиях для небольших панелей благодаря своей простоте и многофункциональности для решения следующих задач:

- отработка и модернизация технологий получения органических полупроводниковых структур
- создание новых термически и химически стабильных молекулярных материалов
- исследование условий процесса получения и свойств органических люминофоров и твердотельных активных излучающих сред (матриц)
- исследование фото – и других процессов  в органических соединениях
- масочные технологии и др.


Установка VSE-PVD-OLED предназначена для получения нанокомпозитных тонкоплёночных покрытий высокого качества методом совместного термо-резистивного испарения с возможностью предварительного нагрева подложек.
Установка встраиваема в перчаточный бокс, в котором поддерживается атмосфера с низким содержанием пыли, кислорода и влаги.


Отличительные особенности:

1. Установка включает два испарителя металлов и два испарителя органических соединений с защитным экраном от загрязнения камеры и заслонкой над испарителями.
Специально изготовленный  низкотемпературный испаритель (LTE) собственной разработки имеет защищённый от прямого воздействия испаряемого материала нагреватель, а также две точки размещения термопары, что позволяет контролировать температуру с точностью до 0,1 С.  Испаритель легко демонтируется и  разбирается для обслуживания (чистка, замена нити и т.д.). Система крепления и позиционирования направленности распыления для OLED источника испарения обеспечивает выставление положения источника по трем координатам с точностью до 0,5мм. Тигель легко вставляется/извлекается благодаря специальному быстроразъёмному механизму защёлки. Из-за отсутствия прямого контакта тигля с высокотемпературной частью нагревателя отсутствует сплавление тигля с опорой и стенками испарителя.

2. Возможно одновременное испарение с двух молибденовых лодочек или с двух испарителей органических соединений LTE, позволяющее создавать нанокомпозитные материалы.

3. Цилиндрическая вакуумная камера с двумя фланцами на торцах. Материал камеры – термостойкое боросиликатное стекло. Толщина стенок 7мм.
Использование стеклянной камеры позволяет производить обзор с любого угла, что важно для исследовательских и учебных целей. Также низкая масса стеклянной камеры облегчает ее перемещение внутри перчаточного бокса для дальнейшей загрузки/выгрузки материала напыления и образцов.
На верхнем фланце установки предусмотрены нержавеющие ТЭНы для нагрева подложки. Нить накаливания ТЭНа изолирована от вакуумной части установки таким образом, что исключает перегорание и обеспечивает надёжность работы системы.

4. Специальная конструкция подложкодержателя обеспечивает простоту закрепления стандартизированных подложек, предусмотренных технологией.

5. Система автоматизации установки предусматривает откачку по одной кнопке. Большой удобный сенсорный дисплей отображает мнемосхему процесса.


Установка снабжена системой контроля толщины напыляемого слоя на основе кварцевого кристаллического сенсора с контроллером, обеспечивающим отображение толщины напыляемой пленки в диапазоне 0 нм- 999,9 мкм с разрешением 0.1 нм.

Для реализации технологии сушки термически неустойчивых продуктов разработана линейка вакуумных сушек при положительных температурах VSE-Pro-Dry – универсальное пищевое оборудование для получения сухого продукта из различного сырья.
Метод тепловой вакуумной сушки в отличие от метода сублимационной ( лиофильной) сушки при низких температурах и конвекционной сушки позволяет снизить энергетические затраты при лучшем качестве продукта и равномерности.
Экономия времени процесса и оптимизация загрузки существенно увеличивают общую производительность. Размер максимальной загрузки может составлять до 200 кг., в зависимости от получаемой продукции. Время одного цикла сушки – от 1,5 до 4 часов.
Благодаря послоевому инфракрасному нагреву и системе Wetflow (равномерное распределение паров по объёму вакуумной камеры) достигается высокая повторяемая однородность влажности конечного продукта.
Условия вакуумной сушки полностью обеспечивают чистоту продукта.
Все компоненты вакуумной сушки изготовлены только из химически неактивных материалов: пищевой нержавеющей стали и оксидированного алюминия без применения лакокрасочных покрытий. Камера оснащена системой контроля температуры конечного продукта с точностью до 0,5-1 Со,ии системой полной автоматизации технологического процесса, что дает широкие возможности для подбора необходимого техпроцесса для сушки различных продуктов. Установлена уникальная система влагостойких нагревателей, разработанная конструкторским отделом компании «Вакуумные системы и электроника» – обеспечивающих высокую степень равномерности прогрева (до 250 С).
Для обеспечения быстрой загрузки/разгрузки продукта камера комплектуется выдвижной кассетой. 
Дополнительно сушка может комплектоваться конденсатором для сбора экстрактов, выделенных из продукта.
Установки VSE-Pro-Dry успешно эксплуатируются на нескольких заводах по производству диетического питания. Налажен серийный выпуск.  Рекомендованы для пищевой, фармацевтической, химической промышленности, а также для всех видов производств с повышенными требованиями к скорости и чистоте процесса получения высококачественной продукции.