Явление испускания твёрдыми телами вторичных электронов при бомбардировке их пучком первичных электронов лежит в основе многих современных методов анализа поверхности. Энергетические спектры и угловые распределения вторичных электронов содержат достаточно полную информацию об основных микроскопических характеристиках поверхности - составе, структуре, электронном строении.

Также явление ВЭЭ лежит в основе принципа работы ряда электронных приборов, например, в фотоэлектронных умножителях, в электроннолучевых трубках с записью изображения в виде потенциального рельефа и в Оже-спектрометрах.

Разработанная нашей компанией установка для измерения коэффициента ВЭЭ и работы выхода электронов состоит из:

- вакуумной камеры (ØхД 280 х 300 мм)с подставкой;
- системы форвакуумной и  высоковакуумной откачки на основе ТМН и магниторазрядного насоса (предельный вакуум - 5∙10-8 торр);
- электронной пушки с блоками питания (максимальная энергия - 3 кэВ);
- коллектора электронов;
- антидинатронной сетки;
- нагреваемой мишени;
- системы измерения тока с мишени и с коллектора;
- высоковольтный источник питания для измерения запирающего потенциала.

Управление установкой производится в ручном режиме при помощи блока управления установкой.

Автоматизированная электронно-лучевая установка "VSE High Energy Beams"

 

Установка предназначена для работы с электронными высокоэнергетическими пучками.

Для генерации сфокусированного электронного пучка здесь  используется электронно-лучевая пушка.


Назначение:


- в промышленности: электронно-лучевая сварка, вакуумная резка, плавка как металлов, так и неметаллических соединений (стекло, керамика, полимерные материалы и т.д.).
- отработка новых (в том числе аддитивных) технологий
- в научных исследованиях, связанных со взаимодействием различных сред и электронных пучков


Области применения:
авиационная промышленность, космическая индустрия, энергетическое машиностроение,  медицина и др.

Основные технические характеристики:
* Максимальная энергия пучка 150 кэВ, ток 200 мА.
* Стабилизация давления в вакуумной камере на заданном уровне в диапазоне 10^(-6) Торр до 10^(-2) Торр
* Система водяного охлаждения на каждой грани вакуумной камеры для защиты от перегрева: суммарный отвод до 35 кВт тепловой энергии.
* Специальная конструкция стенок вакуумной камеры, фланцевых соединений, вводов в камеру, иллюминаторов для наблюдения и других конструктивных элементов обеспечивает защиту от рентгеновского излучения, образующегося при взаимодействии электронного пучка с коллектором. 

 
* Управление установкой предусмотрено  в ручном и полуавтоматическом режиме. Унифицированная управляющая программа реализована на базе современных программно-аппаратных средств . Включает в себя систему блокировок, кросс-бокс с гальваническими развязками. Предусматривает отображение мнемосхемы процесса на дисплее и возможность управления всей запорной арматурой, вакуумной системой, отображением параметров вакуума.
Возможность работы в широком диапазоне энергий пучка и давлений в камере даёт перспективы использования различных источников и режимов (скорости плавления и пр.)


Уникальной особенностью данной установки является прецизионный трехкоординатный манипулятор (диапазон перемещений 400х400х400мм, точность позиционирования 0.05 мм) для проведения экспериментов с различными материалами (вес образца до 200кг). Манипулятор обеспечивает перемещение изделия, размещенного на его столе, в трех взаимно перпендикулярных координатах (X, Y и Z).
Управление манипулятором реализовано на базе плис Xilinx для обеспечения перемещения  в реальном времени с заданной скоростью.

01.09.2014 Производственная линия новых вакуумных сушек «Арида»  серии VSE_PRO_DRY  с улучшенными характеристиками введена в эксплуатацию на предприятии по выпуску диетического питания.


 

 Эффективность тёплой вакуумной сушки по сравнению с традиционными способами подтверждена практикой.
Эта технология завоёвывает всё большую популярность среди производителей, грамотно распоряжающихся своими активами. Ведь производительность  полностью автоматизированной установки позволяет получать до 200 кг высококачественного продукта за 2-4 часа, существенно экономя энергоресурсы и человеческий труд.

 

         УЗНАЙТЕ_БОЛЬШЕ_О_НОВЫХ_СУШКАХ_АРИДА!

 

 

Лабораторная вакуумная печь «VSE VACUUM FURNACE».

Лабораторная вакуумная печь VSE VACUUM FURNACE

 

Установка предназначена для  проведения термической обработки металлов и керамик в вакууме. Используется для изменения механических свойств
 изделий, материалов, деталей с целью улучшения эксплуатационных характеристик.

Также предназначена для вакуумного отжига/дегазации поверхности. Рабочей атмосферой может быть как вакуум, так и среда инертного газа.

Установка имеет цилиндрическую камеру из нержавеющей стали, с наружным диаметром 440 мм и длиной 500 мм, охлаждаемую проточной водой.
Внутри камеры на керамиках установлен фехралевый нагреватель.
Рабочая температура нагревателя до 1000 0С кратковременно, до 800 0С длительно.
Опции:
- порт для подключения тепловизора
- дополнительные высоковрольтные силовые разъёмы
- дополнительные термопары
- полная автоматизированная система управления с возможностью задания технологических процессов.
- система подачи газов

Мелкосерийное производство с 2009 г.

Возможности установки

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий и проведения научных исследований в области материаловедения, приборостроения, электроники, нанесения оптических покрытий, микромеханических устройств (MEMS)  и др.
Оптимально соответствует целям и задачам учебного процесса ВУЗов.
Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации  управления вакуумной системой и процесса напыления. Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами.
Установка предусматривает возможность нанесения  различных типов металлов и диэлектриков как на твёрдые, так и на дисперсные образцы. Толщина покрытий от десятков нанометров до нескольких микрон.

Основные характеристики

- система безмасляной откачки обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий. Предельное остаточное давление - 1*10-7мБар.
- специально разработанная конструкция вакуумной камеры для оптимизации процесса в малом объёме. Выполнена из нержавеющей стали, обеспечивает распыление сверху вниз. Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий
Съемный верхний фланец предусматривает возможность установки дополнительного магнетрона и ионного источника на месте двух  портов. Специальный фланец для установки датчика толщины покрытий.
- минимизация диаметра нераспыляемой центральной части магнетрона. Магнетрон с заслонкой выполнен на фланце в стандарте ISO100 с возможностью регулировки высоты расположения мишени относительно фланца.
Мощность разряда, до 1,5 кВт
Однородность наносимых покрытий: ±10%
- диапазон плавного регулирования выходной средней мощности: от 0,1 до 3 кВт
- подложкодержатель с шаговым двигателем и оптическими датчиками обеспечивает точность положения до 0,5 мм. Количество подложек диаметром  90 мм – 4 шт.
Ввод вращения в вакуум с дифференциальной откачкой.
- подача газа осуществляется непосредственно через магнетрон (опция)
- предусмотрена возможность измерения толщины покрытия (опция)
- устройство нагрева подложкодержателя (опция)
-  передача данных и управление через ПК (опция)
-  комплектующие от ведущих мировых производителей

Система управления - полуавтоматическая. Реализована на программируемом контроллере с  управлением откачкой, потоками газов, электромагнитными клапанами, шаговым двигателем, технологическими источниками питания. Наличие системы блокировок по потоку воды и по допустимому вакууму. Наличие цветного сенсорного экрана.

Возможная комплектация:

Система измерения толщины металлического покрытия - опционально (обеспечивает измерение скорости осаждения, толщину покрытия, ресурс кристалла).
Тип датчика — кварцевые микровесы, с пневматической заслонкой.

Масса: 87 кг.

Размеры установки (длина х ширина х высота): 1050х700х670 мм.